塚﨑研究室|東京大学/東北大学

For Prospective Students

進学希望の方へ

Message

メッセージ

塚崎研究室では、
真空装置を利用する薄膜合成技術を習得して、自分で薄膜を作り、その薄膜を用いて各種の物性評価を自ら行う研究方針です。 そうした日々の実験を通して小さな成功体験を得ながら、面白い研究目的の達成に向かって一緒に研究を進めていきたいと思っています。
最近の研究室のテーマは、トポロジカル絶縁体、ワイル半金属、酸化物、トポロジカル物性、磁性、超伝導や導電体物性などです。

企業や大学、国研などでの研究者を目指す方には、大学の附置研究所での研究経験は貴重なものにできると思います。 また、薄膜研究や真空技術は、太陽電池や磁気メモリなど多様な素子の開発に直結しますので、有用な経験になるものと思います。

酸化物やカルコゲナイドを中心に薄膜合成していますが、それらは超伝導、磁性、誘電性、半導体特性やトポロジカル物性などの物性研究の対象として大変魅力的です。
薄膜の高品質化や原子レベルで急峻な界面の形成は、薄膜の物性観測、素子特性の発現や特性向上をもたらします。

薄膜合成は熱力学や固体化学、物性は電磁気学や量子力学など多くの学問分野と関わっています。 基礎を学びながら研究で活躍することを一緒に目指していきましょう。実験結果の論文発表や学会発表を積極的にサポートします。

研究室で実施する基礎研究をベースに、素子応用への可能性を見出すきっかけにできるように、様々なテーマや研究対象を考えています。
当研究室での活動と進学に興味がありましたら、まずは、気軽にご連絡頂ければと思います。

毎年、4,5月にかけて大学院入試の説明会が行われます。
学部と異なる大学院への進学や異なる研究室への進学は、決して珍しいことではありませんし、 視野を広げる良い機会とも捉えることができます。
大学院に進学後からでも、修士論文や博士論文の研究を十分に実施できますので、興味のある方はぜひご相談ください。